光刻胶曝光时间与剂量调整 - 深圳市华雄半导体（集团）有限公司

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曝光时间与剂量调整：光刻胶曝光工艺的关键考量
光刻胶曝光时间是指在光刻过程中，光束照射在光刻胶上的持续时间。这个时间直接影响着图像的分辨率和缺陷率。过短的时间可能导致图像边缘模糊，而时间过长则可能引发光刻胶的降解和光刻胶颗粒的沉积。

2026-05-26